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本場次報名截止日期10/29下午18:00,不開放現場臨時報名。
【日本專家】極致EUV微影微細化用光阻劑材料開發研討會

【主辦單位】三建資訊有限公司
【日期時間】2021/11/9(二),10:00~12:00
【註冊報名】1,000元(來1贈1)
【預定地點】MS Teams雲端會議室
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議題綱要

  日本EIDEC國家計畫(全名:極紫外光微影基礎設施研發中心),主要與日廠合作的研發中心。曾經於2015年開發出新型光阻劑,加速10奈米製程進展的重大突破。
  本研討會特邀參與EIDEC計畫的藤森亨先生(富士Film(株)研發總部 電子材料研究所 經理)分享多年研發EUV光阻劑的經驗。

2021年11月9日(二)10:00~12:00 授課講師:藤森亨(語言:日文演說.逐步口譯)
一、應用市場的環境變化
  1.數位化環境
  2.電子設備高速化、大容量化、省電力化之實例
二、微影微細化之演進
  3.曝光波長短波化,以達成微影微細化
  4.ArF液浸微影
  5.富士Film的NTI技術延續ArF液浸微影(註:NTI:Negative tone imaging)
三、EUV微影
  6.EUV微影演進
  7.介紹解決Outgas問題、金屬光阻之技術開發的EUV微影要素開發經驗(註:曾參與國家計畫EIDEC、跨國合作)
  8.介紹EUV光阻最新動向、技術開發(註:適合量產商品化之開發、降低隨機性迴歸因子)

講師介紹

藤森亨

/富士Film(株)研發總部 電子材料研究所 經理。在1991年進入富士Film公司之後,歷經Photo Film材、半導體新材料(Photoresist)、傳感器材料(Color resist)等的研究開發、商品量產化、統籌工作。自2014年起在國家計畫EIDEC(EUVL開發中心)研究開發EUV用光阻劑材料,並從事EUV開發的生產線工作。超過200件專利申請
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1. 報名洽詢:(02)2536-4647#10張小姐(電子郵箱sumken@sum-ken.com)
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(1)「來1贈1」報名繳費1位,再贈送1位免費名額;
(2)「電子發票」以Email寄達學員報名登記信箱※
(3)「 匯款ATM繳費」中國信託銀行(822)城北分行 657-540116548三建資訊有限公司
(4) 最遲請於開課日期「提前5個工作天」完成繳費,課程現場繳費恕不享優惠資格

視訊課程說明

(2)「線上學員」請回覆紙本講義的(郵寄地址),郵資費由本單位負擔。(海外地區亦同)。
(3)課程學員繳交之應備文件,由本單位負擔回郵郵資。務必請本人簽名並寄回。
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(5)倘若學員藉線上學習之便,而有不法侵權情事。本單位有權隨時終止該位學員資格,學員需自負法律責任,且所繳費用概不退還。
(6)線上多元視訊課程,是防疫期間的寶貴資源,敬請學員愛惜使用。
(7)謝謝所有長期支持三建技術課程的學員。

注意事項

(1)為尊重講師之智慧財產權,恕無法提供課程講義電子檔。
(2)課程前3天,學員將收到【上課通知】,務請留意Email信件。
(3)退費標準:課程前3天取消者,得全額退費;前3天內取消者,則酌收課程定價之10%手續費;課程當天取消者,恕不受理退費,惟可轉讓與其他人參訓。

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